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【共用題干題】
制造晶體管一般是在高雜質濃度的n型襯底上外延一層n型外延層,再在外延層中擴散硼、磷而成的。
在外延層中擴散硼后,硼的濃度分布隨樣品深度變化。設擴散層某一深度處硼濃度為5.2×10
15
cm
-3
,計算300K時E
F
的位置及電子和空穴濃度。
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設n型外延層雜質均勻分布,雜質濃度為4.6×10
15
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的位置及電子和空穴濃度。
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【【共用題干題】】
制造晶體管一般是在高雜質濃度的n型襯底上外延一層n型外延層,再在外延層中擴散硼、磷而成的。
在外延層中擴散硼后,硼的濃度分布隨樣品深度變化。設擴散層某一深度處硼濃度為5.2×10
15
cm
-3
,計算300K時E
F
的位置及電子和空穴濃度。
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