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名詞解釋

過(guò)刻蝕

答案：刻蝕薄膜時(shí)，晶圓內(nèi)的刻蝕速率和薄膜厚度并不完全均勻，主刻蝕后，會(huì)有少部分的薄膜留下，移除剩余薄膜的過(guò)程稱為過(guò)刻蝕。

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負(fù)載效應(yīng)

答案：等離子體圖形化刻蝕過(guò)程中，刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓。

問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述IC芯片工藝過(guò)程中包括的刻蝕工藝過(guò)程

答案：（1）圖形化和整面全*區(qū)刻蝕。
（2）單晶硅刻蝕用于淺槽隔離。
（3）多晶硅刻蝕用于界定柵和局部互連...

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