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名詞解釋

負(fù)載效應(yīng)

答案：等離子體圖形化刻蝕過程中，刻蝕圖形將影響刻蝕速率和刻蝕輪廓。

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【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述IC芯片工藝過程中包括的刻蝕工藝過程

答案：（1）圖形化和整面全*區(qū)刻蝕。
（2）單晶硅刻蝕用于淺槽隔離。
（3）多晶硅刻蝕用于界定柵和局部互連...

通道效應(yīng)

答案：如果一個(gè)電子以正確的角度進(jìn)入通道，它只需要很少的能量就可以行進(jìn)很長(zhǎng)的距離。

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