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問答題
【簡答題】光刻的主要目的是什么？光刻膠再光刻中的作用是什么？
答案：
目的：在薄膜層上刻蝕出與掩模上完全對應的幾何圖形以實現(xiàn)選擇性摻雜、腐蝕和氧化等目的。
作用：光刻區(qū)的光刻膠是一...
作用：光刻區(qū)的光刻膠是一...
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問答題
【簡答題】哪些基本工藝方法要用到掩膜板？并說明在這些工藝中掩膜板的主要作用。
答案：
光刻。
掩膜版的主要作用是確定了設計圖形的尺寸（即器件的尺寸和結(jié)構(gòu)）和位置，以便轉(zhuǎn)移到材料上。
問答題
【簡答題】什么是外延層？其主要作用是什么？并說明其在當前IC工藝中的主要應用。
答案：
外延層是指在單晶結(jié)構(gòu)的襯底材料上形成的具有同樣單晶結(jié)構(gòu)的一個薄膜層。
主要作用：外延層與襯底有完全相同的晶格結(jié)...
主要作用：外延層與襯底有完全相同的晶格結(jié)...
