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問答題
【簡答題】哪些基本工藝方法要用到掩膜板？并說明在這些工藝中掩膜板的主要作用。
答案：
光刻。
掩膜版的主要作用是確定了設(shè)計(jì)圖形的尺寸（即器件的尺寸和結(jié)構(gòu)）和位置，以便轉(zhuǎn)移到材料上。
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問答題
【簡答題】什么是外延層？其主要作用是什么？并說明其在當(dāng)前IC工藝中的主要應(yīng)用。
答案：
外延層是指在單晶結(jié)構(gòu)的襯底材料上形成的具有同樣單晶結(jié)構(gòu)的一個(gè)薄膜層。
主要作用：外延層與襯底有完全相同的晶格結(jié)...
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問答題
【簡答題】什么是CMP？其主要作用是什么？最終目的是什么？
答案：
化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）工藝，用一種特殊的化合物來精細(xì)地磨平器件層并減小臺(tái)階的高度，是一種將化學(xué)腐蝕與機(jī)械研磨相結(jié)合從而使...
