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【簡答題】亞微米CMOS IC制造廠可分為哪六種獨(dú)立的生產(chǎn)區(qū)?
答案:
A.擴(kuò)散(包括氧化、膜淀積和摻雜工藝)
B.光刻
C.刻蝕
D.薄膜
E.離子注入
F.拋光
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2、金屬有機(jī)CVD(MOCVD):用來淀積化合物半導(dǎo)...
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答案:
(1)離子誘導(dǎo)淀積:指離子被托出等離子體并淀積形成間隙填充的現(xiàn)象
(2)濺射刻蝕:具有一定能量的Ar和因?yàn)楣杵?..
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