97免费在线观看视频,亚洲综合自拍网,黄色毛片免费观看,热久久综合网,免费看日产一区二区三区 狠狠操av,久久久涩涩涩,在线精品免费视频,人人插天天干,久久91精品国产91久久
首頁(yè)
網(wǎng)課
桌面端
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項(xiàng)
0
/ 200字
搜索
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】畫(huà)出P型(100)、(111)和N型(100)、(111)單晶拋光硅片的外形判別示意圖。
答案:
點(diǎn)擊查看答案
你可能感興趣的試題
填空題
半導(dǎo)體集成電路主要的襯底材料有單元晶體材料()、()和化合物晶體材料()、();硅COMS集成電路襯底單晶的晶向常選();TTL集成電路襯底材料的晶向常選();常用的硅集成電路介電薄膜是()、();常用的IC互連線(xiàn)金屬材料是()、()。
答案:
Si;Ge;GaAs;InP;(100);(111);SiO
2
;Si
3
N
4
;Al;Cu
點(diǎn)擊查看答案
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述1990年代CMOS工藝技術(shù)特征:特征尺寸、晶圓尺寸、襯底、隔離、源漏、柵極材料、光刻光源、曝光方式(光刻機(jī))、刻蝕、互連材料及方式等。
答案:
點(diǎn)擊查看答案
微信掃碼免費(fèi)搜題