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填空題

光學(xué)光刻機(jī)主要有()等幾種。非光學(xué)光刻機(jī)主要有()。

答案: 接觸式、接近式、投影式和分步重復(fù)光刻機(jī);電子束光刻機(jī)和X射線光刻機(jī)
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填空題

光刻工藝的主要工序有:()組成。

答案: 涂膠、前烘、對位、曝光、顯影、堅(jiān)膜、介質(zhì)刻蝕、去膠
填空題

快速熱處理設(shè)備(RTP)的主要熱交換機(jī)制是(),常用熱源是()。RTP的主要優(yōu)點(diǎn)是 ()。

答案: 熱輻射;鎢-鹵燈;時間短可減少雜質(zhì)的再分布、燈光加熱無污染
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