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【簡答題】刻蝕的目的是什么?
答案:
目的是為涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形。
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1.極紫外光刻技術(shù)(EUV)
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【簡答題】光學(xué)光刻技術(shù)的改進有哪些方面?
答案:
1.減小紫外線光源波長;
2.提高光學(xué)光刻工具的數(shù)值孔徑;
3.化學(xué)放大深紫外光刻膠;
4...
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