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問答題

【簡答題】光學(xué)光刻技術(shù)的改進(jìn)有哪些方面？

答案： 1.減小紫外線光源波長；
2.提高光學(xué)光刻工具的數(shù)值孔徑；
3.化學(xué)放大深紫外光刻膠；
4...

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【簡答題】為什么要進(jìn)行顯影后檢查？

答案：為了查找光刻膠中成形圖形的缺陷，鑒別并除去有缺陷的硅片，用來檢查光刻工藝的好壞，為光學(xué)光刻工藝生產(chǎn)人員提供用于糾正的信息...

【簡答題】解釋光刻膠選擇比，要求的比例是高還是低？

答案：

顯影也應(yīng)具有選擇性，高的顯影選擇性比意味著顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)得快。
要求比例低。

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