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問答題

【簡答題】列出并描述兩種主要的光刻膠。

答案：負性光刻膠和正性光刻膠。負性光刻膠是負相的掩膜圖形形成在光刻膠上、正相掩膜圖形出現(xiàn)在光刻膠上。

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【簡答題】給出硅片制造中光刻膠的兩種目的。

答案：

1.將掩膜版圖案轉移到硅片表面頂層的光刻膠中。
2.在后續(xù)工藝中保護下面的材料。

【簡答題】列出光刻的8個步驟，并對每一步做出簡要解釋。

答案： 1氣相成底膜：第一步是清洗、脫水和硅片表面成底膜處理。
2旋轉涂膠：完成底膜后，硅片要立即采用旋轉涂膜的方法涂...