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問答題

【簡答題】簡述CMOS雙阱工藝，畫出標(biāo)準埋層雙極工藝流程示意圖。

答案：

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【簡答題】分析比較CMOS工藝中LOCOS和STI兩種隔離技術(shù)的各自特點。

答案：

【簡答題】在VLSI中，為什么要采用Cu互連及多層金屬化技術(shù)？

答案：

因為Cu的互連線電阻率低，介質(zhì)層介電常數(shù)小。
多層互連對VLSI的意義：1提高集成度；2降低互連延遲3降低成本