- 搜標題
- 搜題干
- 搜選項
問答題
【簡答題】IC對金屬材料特性有何要求？
答案：
1、與n＋、p＋硅或多晶硅形成低阻的歐姆接觸（接觸電阻小），利于提高電路速度，
2、抗電遷移性能好，長時間在較...
2、抗電遷移性能好，長時間在較...
你可能感興趣的試題
問答題
【簡答題】何謂氧化增強擴散，發(fā)散區(qū)推進效應？產(chǎn)生機理是什么？
答案：
在熱氧化過程中原存在硅內(nèi)的某些摻雜原子顯現(xiàn)出更高的擴散性，稱為氧化增強擴散。機理：氧化誘生堆垛層錯產(chǎn)生大量自填隙Si，間...
