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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】由外延生長(zhǎng)的Grove模型得到外延生長(zhǎng)速率與反應(yīng)物濃度成正比,對(duì)于以SiCl4為原料的硅外延為什么隨SiCl4濃度的增加會(huì)出現(xiàn)負(fù)的生長(zhǎng)速率?

答案:

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