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問答題

【簡答題】一般介電層IMD的形成由那些層次組成？

答案： ① SRO層沉積（用來避免上層的氟離子往下滲入器件）；
② HDP-FSG（摻有氟離子的硅...

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【簡答題】一般介電層ILD的形成由那些層次組成？

答案： ① SiON層沉積（用來避免上層B，P滲入器件）；
② BPSG（摻有硼、磷的硅玻璃）層沉...

【簡答題】何謂ILD？ IMD？其目的為何？

答案：

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