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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】一般介電層ILD的形成由那些層次組成？
答案：
① SiON層沉積（用來(lái)避免上層B，P滲入器件）；
② BPSG（摻有硼、磷的硅玻璃）層沉...
② BPSG（摻有硼、磷的硅玻璃）層沉...
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問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】什么是 device breakdown voltage？
答案：
指崩潰電壓（擊穿電壓），在 Vg=Vs=0時(shí)，Vd所能承受的最大電壓，當(dāng)Vd大于此電壓時(shí)，源、漏之間形成導(dǎo)電溝...
