97免费在线观看视频,亚洲综合自拍网,黄色毛片免费观看,热久久综合网,免费看日产一区二区三区狠狠操av,久久久涩涩涩,在线精品免费视频,人人插天天干,久久91精品国产91久久

<em id="5pykp"><output id="5pykp"><ins id="5pykp"></ins></output></em>

<dl id="5pykp"></dl><dl id="5pykp"></dl>

<abbr id="5pykp"></abbr>

填空題

光刻包括兩種基本的工藝類型：負(fù)性光刻和（），兩者的主要區(qū)別是所用光刻膠的種類不同，前者是（），后者是（）。

答案：正性光刻；負(fù)性光刻膠；正性光刻膠

你可能感興趣的試題

CMP是一種表面（）的技術(shù)，它通過硅片和一個(gè)拋光頭之間的相對運(yùn)動(dòng)來平坦化硅片表面，在硅片和拋光頭之間有（），并同時(shí)施加（）。

答案：全局平坦化；磨料；壓力

硅片平坦化的四種類型分別是（）、部分平坦化、（）和（）。

答案：平滑；局部平坦化；全局平坦化