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填空題

特大規(guī)模集成電路（ULIC）對光刻的基本要求包括（）、（）、（）、（）、（）等五個(gè)方面。

答案：高分辨率；高靈敏度的光刻膠；低缺陷；精密的套刻對準(zhǔn)；對大尺寸硅片的加工

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硅氣相外延的硅源有（）、（）、（）、（）等。

答案：四氯化硅（SiCl₄）；三氯硅烷（SiHCl₃）；二氯硅烷（SiH₂Cl₂）；硅烷（SiH₄）

根據(jù)向襯底輸送原子的方式可以把外延分為：（）、（）、（）。

答案：氣相外延；液相外延；固相外延

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