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填空題

CVD過程中化學(xué)反應(yīng)所需的激活能來源有（）、（）、（）等。

答案：熱能；等離子體；光能

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常用的濺射鍍膜氣體是（），射頻濺射鍍膜的射頻頻率是（）。

答案：氬氣（Ar）；13.56MHz

濺射鍍膜方法有（）、（）、（）、（）等。

答案：直流濺射；射頻濺射；偏壓濺射；磁控濺射（反應(yīng)濺射、離子束濺射）

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