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問答題

【簡答題】刻蝕工藝有哪兩種類型？簡單描述各類刻蝕工藝。

答案：刻蝕工藝：干法刻蝕和濕法刻蝕。
干法刻蝕是把硅片表面曝露于氣態(tài)中產生的等離子體，等離子體通過光刻膠中開出的窗口...

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【簡答題】例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

答案：

連續(xù)噴霧顯影、旋覆浸沒顯影。
顯影溫度，顯影時間，顯影液量，硅片洗盤，當量濃度，清洗，排風。

【簡答題】解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

答案：光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應的速度快慢，選擇比越高，反應速度越快，所以要比例高。