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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】簡(jiǎn)述硅片清洗目標(biāo)

答案：去除所有表面沾污（顆粒、有機(jī)物、金屬、自然氧化層）

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答案：

點(diǎn)缺陷—空位、自填隙等
線缺陷—位錯(cuò)
面缺陷—層錯(cuò)
體缺陷

問(wèn)答題

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答案：優(yōu)點(diǎn)：
A.比硅更高的電子遷移率，高頻微波信號(hào)響應(yīng)好——無(wú)線和高速數(shù)字通信
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