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多項(xiàng)選擇題

集成電路的制造工藝，需要采用隔離技術(shù)，常見(jiàn)的隔離方法有（）。

A.外延隔離
B.埋層隔離
C.PN結(jié)隔離
D.介質(zhì)隔離

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單項(xiàng)選擇題

CMOS工藝中，將PMOS和NMOS的柵進(jìn)行局部互連的材料是（）。

A.多晶硅
B.金屬鋁
C.金屬銅
D.鋁硅銅合金

單項(xiàng)選擇題

為了實(shí)現(xiàn)全局平坦化，在集成電路中，經(jīng)常采用（）工藝。

A.反刻
B.CMP
C.SOG
D.高溫回流

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