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單項(xiàng)選擇題
刻蝕是用化學(xué)方法或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要材料的工藝過程，其基本目標(biāo)是（）。
A. 有選擇地形成被刻蝕圖形的側(cè)壁形狀
B. 在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩膜圖形
C. 變成刻蝕介質(zhì)以形成一個(gè)凹槽
D. 在大于3微米的情況下，混合發(fā)生化學(xué)作用與物理作用
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