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問答題
【計(jì)算題】設(shè)有一半導(dǎo)體鍺組成的突變pn結(jié),已知n區(qū)施主濃度N
D
=10
15
/cm
3
,p區(qū)受主濃度N
A
=10
17
/cm
3
,試求室溫(300K)下該pn結(jié)的接觸電勢差V
D
。
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問答題
【計(jì)算題】假設(shè)Si中空穴濃度是線性分布,在4µm內(nèi)的濃度差為2×10
16
cm
-3
,試計(jì)算空穴的擴(kuò)散電流密度。
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問答題
【計(jì)算題】試求本征硅在室溫(300K)時(shí)的電導(dǎo)率σ
i
。設(shè)電子遷移率μ
n
和空穴遷移率μ
p
分別為1350cm
2
/Vs和500cm
2
/Vs,本征載流子濃度n
i
=1.5*10
10
/cm
3
。當(dāng)摻入百萬分之一的砷(As)后,電子遷移率降低為850cm
2
/Vs,設(shè)雜質(zhì)全部電離,忽略少子的貢獻(xiàn),計(jì)算其電導(dǎo)率σ,并與本征電導(dǎo)率σ
i
作比較。(硅的原子密度為5*10
22
/cm
3
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