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問答題

【簡答題】簡述光刻膠的成分特征。

答案：光學光刻膠通常包含有三種成份：
①聚合物材料（也稱為樹脂）：聚合物材料在光的輻照下不發(fā)生化學反應，其主要作用是...

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【簡答題】簡述表征光刻膠特性、性能和質量的參數(shù)。

答案：

【簡答題】述集成電路的常規(guī)掩模版制備的工藝流程。

答案：硅平面晶體管或集成電路掩模版的制作，一般地講，要經(jīng)過原圖繪制（包括繪總圖和刻分圖）、初縮、精縮兼分步重復、復印陰版和復印...

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