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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】等離子體工藝在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用

答案：（1）IC制造中所有圖形化刻蝕均為等離子體刻蝕或干法刻蝕。
（2）應(yīng)用于電介質(zhì)積淀。
（3）離子注入...

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答案：通過(guò)使用光圈將入射光以一定角度入射到光學(xué)系統(tǒng)的透鏡上，收集光刻板上光柵的一級(jí)衍射，提高分辨率。

Opc光學(xué)臨界校正

答案：補(bǔ)償當(dāng)圖形尺寸和曝光光線(xiàn)尺寸臨近時(shí)所產(chǎn)生的衍射效應(yīng)。