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【簡答題】例舉硅片制造廠房中的7種玷污源。
答案:
硅片制造廠房中的七中沾污源:
(1)空氣:凈化級別標定了凈化間的空氣質量級別,它是由凈化室空氣中的顆粒尺寸和密...
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【簡答題】什么是硅片的自然氧化層?由自然氧化層引起的三種問題是什么?
答案:
自然氧化層:如果曝露于室溫下的空氣或含溶解氧的去離子水中,硅片的表面將被氧化。這一薄氧化層稱為自然氧化層。硅片上最初的自...
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問答題
【簡答題】對凈化間做一般性描述。
答案:
凈化間是硅片制造設備與外部環(huán)境隔離,免受諸如顆粒、金屬、有機分子和靜電釋放(ESD)的玷污。一般來講,那意味著這些玷污在...
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