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單項選擇題

進行光刻工藝前的清洗步驟是（）。

A.堿溶液清洗
B.有機溶液清洗
C.HF結尾的清洗工藝
D.去離子水沖洗

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多項選擇題

刻蝕過程中聚合物形成的來源有（）。

A.光刻膠
B.Si襯底
C.刻蝕氣體中的碳和其它物質組成的化合物
D.刻蝕溶液

多項選擇題

摻雜后，退火的目的是（）。

A.實現(xiàn)電激活
B.修復損傷
C.提高摻雜均勻性
D.加大損傷

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