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環(huán)境溫度的變化可影響硅片的涂膠均勻性,通常將環(huán)境溫度設定于()。
A.20℃
B.23℃
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D.28℃
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光刻膠對人部分可見光敏感,但對()光不敏感。
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高壓汞燈作為紫外光源被使用有常規(guī)i線步進光刻機上,那么i線的UV光波長為()
A.416nm
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D.740nm
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