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多項(xiàng)選擇題
根據(jù)曝光模式,光制機(jī)的種類分為()。
A.接觸式曝光
B.接近式曝光
C.掃描式曝光
D.投影式曝光
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多項(xiàng)選擇題
刻蝕的過(guò)程中,對(duì)刻蝕的要求是()
A.圖形的保真度高
B.選擇比越接近1:1越好
C.均勻性好
D.晶圓表面的潔凈
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多項(xiàng)選擇題
以下屬于刻蝕環(huán)節(jié)質(zhì)量要求的是()
A.均勻性好
B.圖形保真度高
C.選擇比低
D.潔凈度高
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