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以下工藝中,方塊電阻是一個重要的參數(shù),一般用于衡量()工藝中雜質(zhì)情況。
A.氧化
B.擴散
C.光刻
D.刻蝕
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單項選擇題
在制作MOS管時,采用LOCOS工藝容易出現(xiàn)()。
A.溝道效應(yīng)
B.鳥嘴效應(yīng)
C.寄生效用
D.閂鎖效應(yīng)
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單項選擇題
光刻時,將掩模版直接放在晶圓表面,與表面的光刻膠接觸,該種光刻方式稱為()。
A.接觸式
B.接近式
C.投影式
D.步進(jìn)式
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