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問答題
【簡答題】CMOS工藝中為什么要形成側(cè)墻？在哪一個工藝環(huán)節(jié)形成及為什么？并說明其形成步驟及主要作用。
答案：
步驟：
1）淀積二氧化硅
2）二氧化硅反刻
作用：用來環(huán)繞多晶硅柵，作為n+和p+源漏注入...
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問答題
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答案：
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問答題
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答案：
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