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問答題

【簡答題】雙極集成電路工藝中的七次光刻和四次擴(kuò)散分別指什么？

答案：七次光刻：N+隱埋層擴(kuò)散孔光刻； P+隔離擴(kuò)散孔光刻；P型基區(qū)擴(kuò)散孔光刻；N+發(fā)射區(qū)擴(kuò)散孔光刻；引線接觸孔光刻...

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【簡答題】外延層厚度包括哪幾個部分，公式里的四項分別指什么？

答案：延層厚度應(yīng)滿足 Tepi>Xjc+Xmc+TBL-up+Tepi-ox
集區(qū)擴(kuò)散結(jié)深Xjc&ensp...

【簡答題】簡述隱埋層雜質(zhì)的選擇原則

答案： ①雜質(zhì)固溶度大，以使集電極串聯(lián)電阻降低；
②高溫時在硅中的擴(kuò)散系數(shù)要小，以減小外延時隱埋層雜質(zhì)上推到外延層的距...