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【簡答題】典型的DUV光刻膠曝光劑量的寬容度是多少?

答案: 深紫外光刻膠的曝光寬容度是劑量變化范圍在1%左右。
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答案: 通常用于深紫外光刻膠的準分子激光器是波長為248nm氟化氪(KrF)激光器,193nm的氟化氪激光器大概是作為曝光源的準...
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【簡答題】如果光刻膠對光的吸收過多側(cè)墻會怎樣?

答案: 如果光刻膠的吸收過多,光刻膠底部接收的光強度就會比頂部的少很多,會導(dǎo)致圖形側(cè)墻傾斜。
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