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問答題

【簡答題】簡述刻蝕的概念及其基本目的

答案：概念：用化學(xué)或物理方法有選擇地從硅片表面去除不需要的材料的過程
基本目的：在涂膠的硅片上正確地復(fù)制掩模圖形&e...

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【簡答題】簡述反射切口、駐波的概念、抗反射涂層的作用

答案：反射切口：在刻蝕形成的垂直側(cè)墻表面，反射光入射到不需要曝光的光刻膠中就會形成反射切口
駐波：入射光與反射光發(fā)射...

【簡答題】簡述正膠和負(fù)膠顯影效果

答案：正性光刻膠：曝光區(qū)域溶解于顯影液，顯影后圖形與掩模版圖形一樣
負(fù)性光刻膠：曝光區(qū)域不溶解于顯影液，顯影后圖形與...