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單項選擇題

下面選項屬于主擴散的作用有（）。
1.調(diào)節(jié)表面濃度
2.控制進入硅表面內(nèi)部的雜質(zhì)總量
3.控制結(jié)深

A.1
B.2
C.3
D.1、3

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單項選擇題

不論正膠或負膠，光刻過程中都包括如下步驟：
1.刻蝕
2.前烘
3..顯影
4.去膠
5.涂膠
6.曝光
7.堅膜
以下選項排列正確的是：（）。

A.2561437
B.5263471
C.5263741
D.5263714。

單項選擇題

半導體器件生產(chǎn)中所制備的二氧化硅薄膜屬于（）。

A.結(jié)晶形二氧化硅
B.無定形二氧化硅