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填空題
圓筒式等離子刻蝕的（），適用于（）工藝；反應離子刻蝕，（），可以用通入不同的工藝氣體，實現(xiàn)好的選擇性，適合于對（）和（）的刻蝕。
答案：
方向性差，刻蝕速率慢，過刻蝕性能好；去膠；方向性好，刻蝕速率高；SiO2、Al、Si3N4；多晶硅
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問答題
【簡答題】實用的等離子體刻蝕工藝必須滿足哪些條件？
答案：
1.反應產(chǎn)物是揮發(fā)性的；
2.選擇比率高；
3.刻蝕速率快；
4.具有好的終點靈敏性；
5.有好的各向異性刻蝕速率。
