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采用埋弧加熱方法散熱少,減少弧光對(duì)爐襯熱輻射和侵蝕,并可穩(wěn)定電流。與電爐相比,可采用更低的二次電壓。
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LF比ASEA-SKF法和VAD法等工藝投資要少。
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VAD爐一次性設(shè)備投資高,設(shè)備結(jié)構(gòu)復(fù)雜、易損件多、設(shè)備維護(hù)保養(yǎng)費(fèi)用高。
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