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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】例舉高k介質(zhì)和低k介質(zhì)在集成電路工藝中的作用。

答案:

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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】描述CVD反應(yīng)中的8個(gè)步驟。

答案:

1)質(zhì)量傳輸
2)薄膜先驅(qū)物反應(yīng)
3)氣體分子擴(kuò)散
4)先驅(qū)物吸附
5)先驅(qū)物擴(kuò)散進(jìn)襯底
6)表面反應(yīng)
7)副產(chǎn)物解吸
8)副產(chǎn)物去除

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