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下圖屬于什么光刻機?()
A.接觸式光刻機
B.步進掃描光刻機
C.分布重復光刻機
D.接近式光刻機
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單項選擇題
對于0.25um及以下的隔離技術采用以下()方式。
A.局部氧化隔離
B.PN結隔離
C.PN結-介質隔離
D.淺槽隔離
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單項選擇題
WCVD工藝第一步是()。
A.浸潤
B.成核
C.BULK
D.直接反應
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