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問答題

【簡答題】在氧化層上形成所需要的圖形的步驟是什么？

答案：

甩膠、曝光、顯影、刻蝕、去膠。

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【簡答題】形成SOI材料的主要技術是什么？

答案：

注氧隔離技術、鍵合減薄技術、智能剝離技術。

【簡答題】在場區(qū)中，防止出現(xiàn)寄生溝道的措施是什么？

答案：

足夠厚的場氧化層、場區(qū)注硼、合理的版圖。