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問答題

【簡答題】濕法刻蝕和干法刻蝕的區(qū)別？

答案： 濕法刻蝕設(shè)備簡單、工藝操作方便，一般的常規(guī)生產(chǎn)均能滿足要求，但各向同性刻蝕性太強，難以控制線寬，而且刻蝕劑大多為腐蝕性較...
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問答題

【簡答題】常用的CVD哪幾種？說明各自的優(yōu)缺點以及應(yīng)用領(lǐng)域。
答案： （1）常壓化學(xué)氣相淀積，這種工藝所需的系統(tǒng)簡單，反應(yīng)速度快，并特別適于介質(zhì)淀積，但是它的缺點是均勻性較差，氣體消耗量大，...
問答題

【簡答題】雙極型集成電路的工藝流程具體有哪些？
答案： 1、襯底制備；
2、生長埋層（埋層氧化、光刻、摻雜）；
3、外延生長；
4、生長隔離區(qū)（隔...
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