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問答題

【簡答題】具體描述CMOS集成電路的工藝流程是怎樣的？

答案：襯底；P阱的制作；場氧氧化、確定有源區(qū)；生長多晶硅柵；形成PMOS的源、漏區(qū)；形成NMOS的源、漏區(qū)；生長PSG；制作電...

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【簡答題】二氧化硅膜在集成電路中有哪些用途？

答案：

掩蔽雜質(zhì)、作為柵氧化層、表面鈍化和保護(hù)、介質(zhì)隔離、絕緣介質(zhì)等作用

【簡答題】施主雜質(zhì)和受主雜質(zhì)的含義是什么？

答案：在晶體中電離時(shí)能夠釋放電子而產(chǎn)生導(dǎo)電電子并形成正電中心的雜質(zhì)為施主雜質(zhì)；
在晶體中電離時(shí)能夠接受電子而產(chǎn)生導(dǎo)電...

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