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問答題

【簡答題】干法刻蝕有哪幾種？相應(yīng)的內(nèi)容是什么？

答案： 物理性刻蝕、化學(xué)性刻蝕和物理化學(xué)性刻蝕。
1）物理性刻蝕-濺射刻蝕：等離子體中的離子或高能原子對襯底進(jìn)行轟擊，...
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【簡答題】什么是干法刻蝕？什么是濕法刻蝕？比較二者的優(yōu)缺點(diǎn)。
答案： 1）干法腐蝕是應(yīng)用等離子技術(shù)的腐蝕方法，刻蝕氣體在反應(yīng)器中等離子化，與被刻蝕材料反應(yīng)（或?yàn)R射），生成物是氣態(tài)物質(zhì)，從反應(yīng)...
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【簡答題】光刻的本質(zhì)是什么？
答案：

光刻就是將掩膜版（光刻版）上的幾何圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體襯底表面的對光輻照敏感的薄膜材料（光刻膠）上去的工藝過程。
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