A.因要精確測定不同濃度二氧化硅顯色液的含硅量時，需先用無硅水沖洗比色皿2～3次后再測定；
B.如果按濃度由小到大的次序測定時，則可不沖洗比色皿而直接測定，這時引起的誤差不會超過儀器的基本誤差；
C.測定倒藥液時，則需增加沖洗次數(shù)，否則不易得到準(zhǔn)確數(shù)值；
D.測定倒藥液時，可以不必增加沖洗次數(shù)就可以得到準(zhǔn)確數(shù)值。

A.在酸洗過程中，同時存在著兩個化學(xué)反應(yīng)過程，一是HCl對水垢的溶解；二是HCl對金屬基體的腐蝕；
B.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地加速水垢的溶解；
C.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩水垢的溶解；
D.加入緩蝕劑的目的就是最大限度地減緩清洗過程中對金屬基體的腐蝕。