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單項(xiàng)選擇題

【A1型題】上頜兩側(cè)磨牙全部缺失，設(shè)計(jì)支架式可摘義齒修復(fù)，為防止義齒下沉壓迫黏膜，制作時(shí)要求（）

A.腭桿中部與模型應(yīng)有0.8～1mm距離
B.腭桿中部與模型應(yīng)有1.2～1.5mm距離
C.腭桿中部與模型應(yīng)有0.1mm距離
D.腭桿中部與模型應(yīng)有0.3～0.5mm距離
E.腭桿中部與模型應(yīng)完全貼合

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