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多項(xiàng)選擇題

?關(guān)于氧化速率下面哪種描述是正確的？（）

A.有雜質(zhì)（如Na、P等）存在，氧化速率降低
B.生長十幾nm厚的柵氧化層時(shí)，服從線性氧化速率
C.溫度升高氧化速率迅速增加
D.（111）硅比（100）硅氧化得快

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單項(xiàng)選擇題

在硅片晶向、摻雜類型介紹中，由硅片斷裂邊形成的角度是60o可知硅片是什么晶向？（）

A.（100）
B.（111）
C.（110）
D.（211）

在硅表面LPCVD-Si₃N₄之前，都會先熱生長薄氧化層，它被稱為（）層。

答案：緩沖

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