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判斷題

常用來制造半導體發(fā)光二極管的材料是直接躍遷晶體材料。

答案：正確

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雙極型集成電路工藝是用來制造CMOS集成電路。

答案：錯誤

在集成電路制造工藝步驟中，光刻與刻蝕能把掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到硅片上來。

答案：正確

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