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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】定義刻蝕速率并描述它的計(jì)算公式。為什么希望有高的刻蝕速率？

答案：刻蝕速率=△T/t（A/min）△T=去掉材料的厚度t=刻蝕所用的時(shí)間高的刻蝕速率，可以通過(guò)精確控制刻蝕時(shí)間來(lái)控制刻蝕的...

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問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】例舉出兩種光刻膠顯影方法。例舉出7種光刻膠顯影參數(shù)。

答案：

連續(xù)噴霧顯影，旋覆浸沒(méi)顯影顯影溫度，顯影時(shí)間，顯影液量，硅片洗盤，當(dāng)量濃度，清洗，排風(fēng)。

問(wèn)答題

【簡(jiǎn)答題】解釋光刻膠選擇比。要求的比例是高還是低？

答案：

光刻膠選擇比是指顯影液與曝光的光刻膠反應(yīng)的速度快慢，選擇比越高，反應(yīng)速度越快，所以要比例高。