97免费在线观看视频,亚洲综合自拍网,黄色毛片免费观看,热久久综合网,免费看日产一区二区三区 狠狠操av,久久久涩涩涩,在线精品免费视频,人人插天天干,久久91精品国产91久久
首頁(yè)
網(wǎng)課
桌面端
搜標(biāo)題
搜題干
搜選項(xiàng)
0
/ 200字
搜索
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】光刻和刻蝕的目的是什么?
答案:
光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上,而刻蝕的目的是在硅片上無(wú)光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。即將圖形轉(zhuǎn)...
點(diǎn)擊查看完整答案
你可能感興趣的試題
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】離子注入后為什么要進(jìn)行退火?
答案:
推進(jìn),激活雜質(zhì),修復(fù)損傷。
點(diǎn)擊查看完整答案
問(wèn)答題
【簡(jiǎn)答題】離子注入前一般需要先生長(zhǎng)氧化層,其目的是什么?
答案:
氧化層保護(hù)表面免污染,免注入損傷,控制注入溫度。
點(diǎn)擊查看完整答案
微信掃碼免費(fèi)搜題